熱場發射掃描電子顯微鏡特性：

半浸沒式物鏡

半浸沒式物鏡在樣品周圍形成強磁場，因而可以獲得超高分辨率。

High Power Optics

High Power Optics 是*的電子光學系統，既實現了高倍率觀察又能進行多種分析。

熱場發射掃描電子顯微鏡浸沒式肖特基場發射電子槍，可以獲得10 倍于傳統肖特基場發射電子槍（FEG）的探針電流，光闌角控制鏡（ALC）在探針電流增大時也能保持小束斑，兩者組合起來能提供200 nA 以上的探針電流。強大的High Power Optics 系統，從高倍率圖像觀察到EDS分析和EBSD解析可以一直使用高分辨率的最小物鏡光闌而不需要改換。

浸沒式肖特基場發射電子槍銃   

浸沒式肖特基場發射電子槍通過和低像差聚光鏡組合，可以有效地收集從電子槍內發射的電子。

光闌角控制鏡（ACL）

光闌角控制鏡（ACL）配置在物鏡的上方，在整個探針電流范圍內自動優化物鏡光闌的角度。因此，即使照射樣品的探針電流很大，與傳統方式相比，也能獲得很小的電子束斑。

即使探針電流很大，束斑直徑也很小

長時間分析時穩定度也很高

柔和電子束（GB:GENTLEBEAMTM）模式

GB 模式的效果

GB 模式在低電壓下提高分辨率

左圖一般模式，右圖GB模式：

增強了的低加速電壓下的分辨率

r-過濾器

 LABE檢測器（選配件）

利用LABE 檢測器獲取低角度背散射電子像

擴展性

能譜儀（EDS）

波譜儀（WDS）

陰極熒光系統（CL）